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掩模對準光刻系統包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面

更新時間:2022-11-17  |  點擊率:1218
  掩模對準光刻系統與我們的生活息息相關,我們用的手機,電腦等各種各樣的電子產品,里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個信息社會,各種各樣的信息流在世界流動。而光刻系統是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。
 

 

  光刻系統的技術原理:
  掩模對準光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。
  這就是光刻的作用,類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件。
  掩模對準光刻系統是一種精密的微細加工技術。常規光刻系統是采用波長為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗光刻技術蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實現圖形的變換、轉移和處理,然后把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質層上的一種工藝。
 
  在廣義上,掩模對準光刻系統包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面:
  1、光復印工藝:經曝光系統將預制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置,精確傳遞到預涂在晶片表面或介質層上的光致抗蝕劑薄層上。
  2、刻蝕工藝:利用化學或物理方法,將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質層除去,從而在晶片表面或介質層上獲得與抗蝕劑薄層圖形整體一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的,因而掩模對準光刻工藝總是多次反復進行。例如,大規模集成電路要經過約10次掩模對準光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。
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